美国阻挠EUV光刻机进中国！拒绝英特尔成都建厂计划…

美国这些年对中国的制裁手段已经让人见怪不怪了，但是，很多操作还是会激起网友们的义愤填膺，比如前段时间要求台积电等大厂提交机密数据文件，在微博、知乎等媒体平台讨论度都非常高，网友纷纷指责美国的“霸凌”行为。

最近，美国又双叒叕开始了，不仅阻挠SK海力士引入ASML(阿斯麦)最先进的EUV设备，还驳回了英特尔公司在中国扩大生产的计划，给出的理由是所谓的“国家安全”。下面，就跟小编一起来梳理事件的全部过程吧：

美国阻挠SK海力士引入ASML最先进的EUV设备

前段时间，SK海力士希望引入ASML(阿斯麦)最先进的EUV设备，升级其无锡芯片厂的设备产品，控制成本并加速生产效率。但是，美国对此持反对意见。

美国此前不断阻止中国采购EUV设备，如今的执行主体虽然是韩国企业，但由于会将先进技术引入中国大陆，美国还是选择扼杀这种风险。

韩国存储大厂SK海力士是世界上最大的DRAM内存芯片供应商之一，他们希望改造其在无锡的大型芯片代工厂，这座工厂占公司约半数DRAM芯片的产量，且占其全球产量达15%。SK海力士内部担忧，如果美国持续阻挡，公司可能会在存储芯片竞赛中落后给三星电子、美光等企业。

一位了解SK海力士在中国运营情况的消息人士说：“随着两到三年后新型芯片在SK海力士的生产中占据更大份额，该公司将需要EUV机器来控制其成本并增加产能。”对此，SK海力士方面表示: 根据各种市场环境灵活经营，正在积极应对市场和客户的需求。

EUV光刻机到底有多重要？美国为何阻拦？

在2002年之前，全球光刻机只有美国、荷兰和日本拥有入场券，并对中国实施技术封锁。近年来，全球光刻机市场依旧被ASML、Nikon(尼康)和Canon(佳能)三家瓜分，占据了全球半导体前道光刻机99%的市场。

尽管EUV光刻机相当之贵，接近1.2亿美元一台，但半导体厂商还是愿意去投入。因为7nm以及以上的工艺的确需要EUV光刻机，同样的7nm工艺若使用EUV光刻技术之后晶体管密度和性能都变得更好。

根据台积电给出的数据，相较于初代7nm工艺，7nm EUV(N7+)可以提供1.2倍的密度提升，同等功耗水平下提供10%的性能增幅，或者同性能节省15%的功耗。目前，三星和台积电都已经使用7nm EUV工艺开始生产芯片。

一位白宫高级官员拒绝具体评论美国官员是否会允许SK海力士将EUV设备带到中国大陆的问题。但这位官员告诉路透社，拜登政府仍然专注于防止中国利用美国和盟国的技术来发展最先进的半导体制造技术，从而帮助中国实现军事现代化。

白宫拒绝英特尔公司在中国扩大生产的计划

除了反对EUV光刻机进入中国，美国还拒绝了英特尔公司在中国扩产的计划。据彭博社(Bloomberg)11月13日报道，白宫拒绝了英特尔公司在中国扩大生产的计划，而给出的理由仍然是所谓的“国家安全”。美国政府宁可面临芯片供应链短缺危机，也不愿意让中国提高产能。

英特尔本来是计划在中国成都建立一家能够生产硅晶片的工厂，这个工厂有望在2022年底投入生产，帮助缓解全球供应链危机，但美国政府再三考虑后决定，驳回英特尔的计划。知情人士说，当英特尔向美国政府提交这一计划时，拜登政府的官员表现出了“强烈反对”。

彭博社在报道中表示，当前的芯片短缺危机已经严重影响了科技和汽车行业，让依赖芯片的企业损失了数十亿美元的收入，并迫使工厂停工。美国政府希望解决制约因素，但同时也在努力将关键部件的生产带回美国，英特尔在中国扩产显然与拜登的目标背道而驰。

白宫的一名代表拒绝就具体交易或投资置评，但表示，政府“非常关注防止中国利用美国的技术、专门知识和投资来发展最先进的能力。”

IC先生解读：

中国的半导体产业想要有所发展，EUV光刻机是肯定要努力突破的一个难题，不过并不是唯一的难题，要努力的地方还有太多太多了，我们还是要正视和美国在技术方面的差距。

此外，小编在网上看到了一个比较有趣的说法，有专家表示，半导体行业如今的火热可能不是一件好事，各行各样的发展还是细水长流比较好，大家一窝蜂都来关注的话，容易导致跟风，造成资源的浪费，甚至会有利益团体借机牟利。对此说法，你怎么看呢?

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